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3000℃石墨化爐

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立式高溫石墨化爐

立式高溫石墨化爐主要應用于PI膜石墨化,石墨烯石墨化,負極材料石墨化等碳素材料及碳碳、碳陶復合材料的燒結和石墨化,也可用于特種陶瓷燒結,粉末冶金材料等產品的高溫燒結和石墨化。

產品介紹

  •   立式高溫石墨化爐主要應用于PI膜石墨化,石墨烯石墨化,負極材料石墨化等碳素材料及碳碳、碳陶復合材料的燒結和石墨化,也可用于特種陶瓷燒結,粉末冶金材料等產品的高溫燒結和石墨化。




    高溫石墨化爐(立式)

    參數名稱

    用于實驗

    用于生產

    NTG-SML-80L

    NTG-SML-100L

    NTG-SML-150L

    NTG-SML-200L

    NTG-SML-250L

    NTG-SML-350L

    NTG-SML-600L

    NTG-SML-800L

    坩堝有效容積
    (直徑*高)

    mm

    Φ150*250

    Φ200*300

    Φ350*600

    Φ400*800

    Φ500*1050

    Φ600*1200

    Φ800*1200

    Φ1000*1500

    加熱方式

    /

    IGBT

    高溫區(qū)容積

    L

    4

    9

    57

    100

    206

    339

    602

    1177

    裝載量

    g

                      高溫區(qū)容積*產品密度(g/cm3)*1000        注:1L=1000cm3;

    輸入電源

    /

    三相五線制 380V,50Hz/60Hz

    設備構造

    /

    一臺電源柜控制一個爐體     注:可選一拖二,或者一拖四

    爐型結構

    /

    立式

    中頻電源功率

    Kw

    80

    100

    150

    200

    250

    350

    600

    800

    中頻電源頻率

    Hz

    8000

    8000

    2500

    1500

    1000

    1000

    1000

    1000

    最高使用溫度

    3200

    3200

    3000

    3000

    3000

    3000

    3000

    3000

    常用工作溫度

    3000

    3000

    2800

    2800

    2800

    2800

    2800

    2800

    恒溫區(qū)溫差

    ±5

    ±5

    ±10

    ±10

    ±15

    ±15

    ±20

    ±20

    爐內工作環(huán)境

    /

    真空狀態(tài)或Ar、N2氣氛保護(微正壓)


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