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3000℃石墨化爐

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PI膜石墨化爐

PI膜石墨化爐是一種真空石墨化爐,主要應用于聚酰亞胺薄膜的石墨化,使之成為高導熱石墨膜。PI膜石墨化爐也可應用于石墨烯石墨化,負極材料石墨化等碳素材料及碳碳、碳陶復合材料的燒結和石墨化,還可應用于工業(yè)陶瓷,粉末冶金材料等產品的高溫燒結和石墨化。

產品介紹

  •   PI膜石墨化爐是一種真空石墨化爐,主要應用于聚酰亞胺薄膜的石墨化,使之成為高導熱石墨膜。PI膜石墨化爐也可應用于石墨烯石墨化,負極材料石墨化等碳素材料及碳碳、碳陶復合材料的燒結和石墨化,還可應用于工業(yè)陶瓷,粉末冶金材料等產品的高溫燒結和石墨化。



    PI膜石墨化爐

    參數(shù)名稱

    用于實驗

    用于生產

    NTG-SML-150W

    NTG-SML-200W

    NTG-SML-250W

    NTG-SML-350W

    NTG-SML-500W

    NTG-SML-700W

    300*300*600

    350*350*800

    450*450*900

    520*520*1600

    600*600*1600

    800*800*2000

    加熱方式

    /

    IGBT

    高溫區(qū)容積

    L

    54

    98

    182

    432

    576

    1280

    裝載量

    g

          高溫區(qū)容積*產品密度(g/cm3)*1000        注:1L=1000cm3;

    輸入電源

    /

    三相五線制 380V,50Hz/60Hz

    設備構造

    /

    一臺電源柜控制一個爐體     注:可選一拖二,或者一拖四

    爐型結構

    /

    臥式

    中頻電源功率

    Kw

    150

    200

    250

    350

    500

    700

    中頻電源頻率

    Hz

    1500

    1000

    1000

    1000

    1000

    1000

    最高使用溫度

    3000

    3000

    3000

    2900

    2900

    2900

    常用工作溫度

    2800

    2800

    2800

    2800

    2800

    2800

    恒溫區(qū)溫差

    ±5

    ±5

    ±10

    ±10

    ±15

    ±15

    爐內工作環(huán)境

    /

    真空狀態(tài)或ArN2氣氛保護(微正壓)

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